Sihtkapital on avatud kõigile: panustada saavad nii ettevõtted, vilistlased, eraisikud kui ka organisatsioonid. Lisaks põhikapitalile, mis keskendub kriitilistele valdkondadele nagu kaitsetööstus, energeetika või tehisaru rakendused, saab asutada ka sihtotstarbelisi alamfonde. Alamfondid on loodud neile, kes soovivad anda oma panuse kindla valdkonna edendamisse.

Ülikooli ning sihtkapitali nõukogu liikme Ants Villi sõnul on erakapitali kaasamine hädavajalik, et püsida globaalses konkurentsis. „Just nüüd on õige hetk investeerida inseneriharidusse, sest tehnoloogiline platvormivahetus on juba käimas ja otsuste edasilükkamine tähendab mahajäämist,“ rõhutas Vill.

Miks on sihtkapitali vaja?

„Inseneeria on Eesti majanduse arengu selgroog ning ainuke viis kuidas luua tehnoloogilist vältimatust riiklikul tasandil - läbi spetsiifiliste, globaalse mõjuga ning raskesti kopeeritavate toodete ja lahenduste arendamise ning turule toomise. Kui tahame järgmistes tehnoloogilistes murdepunktides Eestit suunanäitajana näha, vajame pikaajalist investeeringut inseneride järelkasvu ja teadusvõimekust, mis reageerib turu muutustele kohe,“ ütles tehnikaülikooli sihtkapitali ja üliõpilasarengu prorektor Hendrik Voll.

Tallinna Tehnikaülikooli nõukogu esimees Heiti Hääl rõhutas, et algatus on strateegiline samm kogu riigi jaoks. „Eesti majanduse järgmine kasvuhüpe sünnib seal, kus teadmine muutub tööstuseks ja tehnoloogia ekspordiks. Inseneeria sihtkapital on investeering sellesse võimekusse – et Eesti suudaks ka järgmistel kümnenditel ise luua, ehitada ja ellu viia suuri muutusi,“ ütles Hääl.

Nõukogu esimehe sõnul kinnitab fondi olulisust ülikooli juhtkonna otsus sellesse vahetult panustada: „Just seetõttu on Tallinna Tehnikaülikooli nõukogu liikmed otsustanud anda oma panuse sihtkapitali käivitamisse. See on ühine vastutus ja ühine tulevikuvalik – inseneeria areng ei ole ainult ülikooli küsimus, vaid kogu Eesti majanduse ja ühiskonna küsimus.“

Kuidas kapital töötab?

Inseneeria sihtkapital on pikaajaline fond, mis järgib maailma tippülikoolide, näiteks Soome Aalto Ülikooli eeskuju. Toetusi ei jagata põhikapitalist, vaid selle investeeringutulust. See tagab vara säilimise ja kasvu tulevastele põlvkondadele, pakkudes ülikoolile riikliku rahastuse kõrval iseseisvat strateegilist finantsvõimekust.

Ants Vill märkis, et tegu ei ole järjekordse kampaaniafondiga. „Selle erakordsus seisneb kolmes asjas: esiteks on see esimene sihtkapital Eestis, mis keskendub inseneeriale kui majanduse teostusvõimekusele – sellele nn viimasele miilile, kus toimub uusimate tehnoloogiate ning turuvajaduste süntees ning ideedest saavad päriselt toimivad lahendused. Teiseks loob sihtkapital pikaajalise ja iseseisva kapitali, mis annab ülikoolile võimaluse arendada professuure ja kompetentse kohe, kui vajadus tekib, mitte aastaid hiljem. Ja kolmandaks seob see tihedalt ülikooli ja ettevõtluse – ettevõtted panustavad oskustesse, mida neil homme päriselt vaja on,“ selgitas Vill.

Vill lisas, et sihtkapitali eesmärk on aidata Eestil täita ambitsioonikat 20 miljardi euro suuruse majanduskasvu eesmärki. „Selleks on vaja talendikaid insenere, kapitali, otsustuskiirust ning fookust – loodud sihtkapital täidab varasemalt puuduolevad võimelüngad. See tagab, et meil on järjepidevalt üha rohkem insenere ja teadlasi, kes suudavad rakendada tehisaru ja sellele järgnevaid uusi tehnoloogiaid keerukates füüsilistes ja reguleeritud süsteemides – energeetikas, tootmises, taristus ja kaitses. See omakorda tähendab rohkem ettevõtteid, kes ei jää prototüübi tasemele, vaid jõuavad tootmise ja ekspordini. TalTechist kujuneb regiooni tugev inseneeriakeskus, mille mõju on otseselt nähtav Eesti majanduse vastupidavuses ja konkurentsivõimes, muutes Eesti vältimatuks riigiks,“ ütles ta.

Panustamisvõimalused ja tulevikuvaade

Lähiajal koguneb sihtkapitali esimene nõukogu, kuhu kuuluvad teaduse, ettevõtluse ja ühiskonna esindajad. Juba on alustatud esimeste rahastatavate suundade ettevalmistamist ning täiendava kapitali kaasamist, et kasvatada fondi maht järgmise 5–7 aasta jooksul 50 miljoni euroni.